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描述：微量高壓光化學反應釜包含：光源設備、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環(huán)境領(lǐng)域的高溫高壓光化學催化、合成、降解等反應。如：光解水制氫，光催化還原二氧化碳制甲醇，光解水，二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應，是昂貴或低產(chǎn)量樣品光催化，降解，還原的理想反應裝置。
微量高壓光化學反應釜裝置包含：光源設備、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環(huán)境領(lǐng)域的高溫高壓光化學催化、合成、降解等反應。如：光解水制氫，光催化還原二氧化碳制甲醇，光解水，二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應，是昂貴或低產(chǎn)量樣品光催化，降解，還原的理想反應裝置。
微量高壓光化學反應釜*技術(shù)特點：
1、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數(shù)及光化學反應的溫度，攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上，國內(nèi)*。
2、更高的使用壓力及溫度設計，普通廠家提供壓力：3mpa，溫度為200℃的設計，巖征公司提供設計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設計。
3、更專業(yè)的光化學釜體設計：釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門，溫度測溫探桿，耐壓透光視窗6大齊全部件，全方面監(jiān)控及采集您所需要的技術(shù)參數(shù)。
4、采用頂入式光源設計，特制防霧雙層JGS2光學級透光視窗，可特別選用藍寶石視窗。
5、嵌入式一體加熱模塊結(jié)構(gòu)，加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作，提高工作效率。
6、更全面的光化學反應釜的材質(zhì)選擇，除了提供普通廠家提供的SU316L材質(zhì)的釜體外，還提供不銹鋼內(nèi)襯teflon，鈦材，鎳材，哈氏合金等非標材質(zhì)釜體的定做。
巖征儀器 微量光化學高壓反應釜型號為：YZ-GHX-HP系列，對應容積分別有10ml,25ml，50ml,100ml，250ml,500ml六款可選。
巖征儀器 微量光化學高壓反應釜技術(shù)參數(shù)表：
| 型號 | YZ-GHX-HP系列 |
| 容 積 | 10、25、50、100、250、500ml可選 |
| 工作溫度 | 300℃以內(nèi) |
| 工作壓力 | 10mpa以內(nèi) |
| 光源類型 | 紫外及模擬太陽光源 |
| 透光孔材質(zhì) | JGS2光學級石英或藍寶石晶體 |
| 加熱方式 | 模塊加熱加熱更均勻，釜體，加熱模塊可輕松分離。 |
| 加熱功率 | 0.5-1KW |
| 攪拌速度 | 0－1500rpm |
| 攪拌方式 | 內(nèi)部磁力攪拌 |
| 材質(zhì) | 標配SU316L，另有哈式合金、鈦材、鋯材、鎳材可選 |
| 巖征儀器*優(yōu)勢 | 1、國內(nèi)*液晶觸摸控制屏，光源及光化學反應釜參數(shù)實時液晶顯示及屏幕上直接修改控制。 |
| 參數(shù) | 巖征儀器 微量光化學高壓反應釜 | 國內(nèi)同行業(yè)廠家設備 |
| 光源情況 | 光源采用頂部開孔平行照射式，氙燈采用美國進口PE燈源，另選配100W,300W,500W,1000W汞燈，汞氙燈，氙燈光源。 | 普通光源，光源功率瓦數(shù)上不全。 |
| 容積 | 10-500ml（巖征公司是專業(yè)反應釜公司，容積、規(guī)格圖紙完善，設計施工一體，可按照客戶需求定制。 | 容積單一，集中在100ml,200ml等一些常用規(guī)格上 |
| 控制部分 | 國內(nèi)*，謹防假冒！液晶觸摸屏操作，PLC程序控制，控制箱體外觀及功能設計已申請，控制系統(tǒng)可控制汞燈，氙燈，金鹵燈等各種實驗光源的點亮，閉合，并且支持燈源穩(wěn)定時間設置，10.1吋液晶顯示屏實時顯示光源功率、電流、電壓等實驗重要參數(shù)，給您的實驗帶來*的方便！ | 按鈕操作。只能簡單實現(xiàn)光源的點亮及關(guān)閉。 |
| 釜體材質(zhì) | 標配316L不銹鋼，另有鈦材,鋯材,蒙乃爾合金,哈氏合金等可選 | 普通不銹鋼 |
| 通光孔設置 | 防霧耐壓紫外石英視窗，通光孔徑30mm,通光率在92%以上?？蛇x配藍寶石材質(zhì)或配鍍膜透光耐壓視鏡。 | 石英材質(zhì) |
| 溫度設置 | 采用PID程序控制溫度，控溫范圍:室溫-300℃，另有-30℃-280℃溫度可定做。*環(huán)繞式加熱裝置，保證光化學反應中釜內(nèi)各部分物料的溫度均勻性。 | 控溫均勻性不能保證。 |
| 壓力設置 | 標準工作壓力10mpa以內(nèi)，設計壓力為12.5mpa。釜體配壓力表及安全泄壓裝置保證反應安全. | 壓力一般在3mpa,沒有嚴格的試壓標準及規(guī)范 |
| 攪拌控制 | 液晶觸摸屏控制，轉(zhuǎn)速數(shù)字顯示，可控可調(diào)。速度：0－1500rpm巖征公司的攪拌集成度高，可控可顯。 | 國內(nèi)廠家兩種情況，一種是不帶攪拌，一種是釜底放置在磁力攪拌器上 |
| 通氣設置 | 光化學釜蓋設置有通氣口，可實現(xiàn)光照反應在真空負壓下反應，通氮氣反應，通氧氣反應，通其他氣體反應等。配高溫高壓進口通氣閥門，可通多路氣體。 | 可通低壓氣體，不可多路通氣。 |
| 取樣設置 | 在光催化高溫高壓情況下（250℃、10mpa）,巖征公司*帶壓取液相物料設計，可以在不終止反應情況下進行手動取樣，在線分析。 | 在低溫低壓的情況下，（常溫、0.5mpa）少數(shù)廠家可以實現(xiàn)這個功能。 |
